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圖書推薦鋰離子電池用納米硅及硅碳負(fù)極材料天前-分析氣態(tài)硅遷移、沉積行為及氣相沉積硅的微觀結(jié)構(gòu),并通過研磨法制備納米硅氧化硅顆... .機(jī)械研磨制備納米硅基本原理 .硅納米顆粒的粒徑與...化學(xué)機(jī)械研磨_百科化學(xué)機(jī)械研磨,晶圓制造中,隨著制程技術(shù)的升級、導(dǎo)線與柵極尺寸的縮小,光刻(Lithography)技術(shù)對晶圓表面的平坦程度(Non-uniformity)的要求越來越高,IBM公司于年發(fā)展CMOS產(chǎn)品引入,并在年成功應(yīng)用于的DRAM生產(chǎn)中。年以后,CMP技術(shù)得到了快速發(fā)展... 詳情>>外文名稱：chemical mechanical polish分類：硅研磨、硅氧化物研磨應(yīng)用：晶圓制造研磨耗材：研磨液、研磨墊簡稱：CMP中文名稱：化學(xué)機(jī)械研磨

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