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化學(xué)機(jī)械拋光、研磨劑用硅溶膠修改時間: 11:43:41 點(diǎn)擊量:104化學(xué)拋光和機(jī)械拋光相結(jié)合,形成化學(xué)機(jī)械拋光的拋光方法,極大地提高了硅片的拋光精度和拋光
芯片封裝工藝中主要研究化學(xué)機(jī)械拋光減薄工藝 這是一種使用金剛石顆粒對晶圓進(jìn)行研磨減薄 然后使用化學(xué)液進(jìn)行拋光減小其表面和亞表面損傷 增加硅晶圓
1.一種化學(xué)機(jī)械研磨劑,其特征在于,由下列物質(zhì)按重量百分比配制而成:單分散納米氧化硅微球磨料0.0130%,氧化劑0.0120%,穩(wěn)定劑0.130%,余量為水,所述單分散
如何選擇河卵石制砂機(jī),道渣石粉碎機(jī)械多少錢一臺,鎢分散研磨泵連接閥,使石墨溶液通過精細(xì)分散研磨機(jī)、機(jī) 臥式鏈粉碎機(jī) 復(fù)專用破碎機(jī) 破碎工業(yè)硅的
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本文闡述了陶瓷球精密研磨加工參數(shù)的選擇與其性能和 加I _ 效率的關(guān)系,介紹了氮化硅陶瓷球磁懸浮拋光 (F)、化學(xué)機(jī)械拋光 (M )方法等超精密加工的新技
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(上海交通大學(xué)微電子學(xué)院, 上海 200240) 摘要: 化學(xué)機(jī)械研磨是當(dāng)今能夠提供用于超精密硅晶片表面的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)技術(shù)研究[J]. 潤滑與密封,
ULSI硅襯底化學(xué)機(jī)械研磨技術(shù)研究 通過對傳統(tǒng)硅片研磨加工工藝過程中的問題進(jìn)行深入研究和分析,總結(jié)了影響硅片表面質(zhì)量的主要影響因素,提出了將化學(xué)機(jī)械平整化技術(shù)應(yīng)用到
法人名稱: 東莞東元研磨機(jī)械有限公司 主要經(jīng)營產(chǎn)品: 振動研磨設(shè)備, 拋光, 研磨清洗劑, 除蠟水, 超聲波清洗劑, 皮膜劑, 黑硅, 綠硅, 離心研磨
福吉電子科技有限公司()專注于研發(fā)化學(xué)機(jī)械拋光耗材的領(lǐng)域,產(chǎn)品有藍(lán)寶石拋光液,氧化硅拋光液,精拋墊,研磨液,化學(xué)機(jī)械拋光,廣泛用于平面拋光領(lǐng)域.
上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司(德國IKN工業(yè)設(shè)備) 經(jīng)營模式:生產(chǎn)商 商鋪產(chǎn)品:468條 硅凝膠膠體高速剪切膠體磨,凍膠研磨均質(zhì)分散機(jī),凝膠粉碎機(jī),解決粘度
化學(xué)機(jī)械作用研磨液:化學(xué)機(jī)械作用研磨液利用了磨損中的"軟磨硬"原理,即用較軟3、使用深圳市偉盛業(yè)貿(mào)易有限公司"研磨液添加劑(硅垢阻垢劑)"。該