清洗設(shè)備方面,北方華創(chuàng)中標(biāo)的濕法清洗設(shè)備為13臺。而芯源微、盛美上海、屹唐半導(dǎo)體中標(biāo)的濕法清洗設(shè)備分別為8臺、14臺和2臺。即北方華創(chuàng)在上述時(shí)間段中,于

9.ASM國際（ASMI）：主營業(yè)務(wù)包括半導(dǎo)體前道用沉積設(shè)備,產(chǎn)品包含薄膜沉積及擴(kuò)散氧化設(shè)備。1Hདྷ半導(dǎo)體業(yè)務(wù)營收同比增長19.3%,環(huán)比增長4.0%。10.迪斯科（Disco）：日本晶圓切割設(shè)

TOPCon技術(shù)方案多樣,設(shè)備廠商各有側(cè)重。在PERC技術(shù)升級為TOPCon的核心3 大工藝步驟中(隧穿氧化層、多晶硅層、擴(kuò)散),多家廠商推出了各自的技術(shù)方案, 氧化層需要新增的設(shè)備主要是氧化

"云創(chuàng)達(dá)"品牌,專注于【陽極氧化生產(chǎn)線】、【鋁卷連續(xù)氧化設(shè)備】、【硬質(zhì)氧化設(shè)備】、【微弧氧化設(shè)備】、【微弧卷對卷連續(xù)設(shè)備】的研發(fā)生產(chǎn)、銷售為一體的非標(biāo)定制企業(yè),15年行業(yè)生

熱處理/氧化擴(kuò)散設(shè)備:主要被國外廠商占據(jù),包括應(yīng)用材料、東京電子、Kokusai(科意 半導(dǎo)體),這幾家企業(yè)在全球市場范圍內(nèi)占據(jù)主導(dǎo)地位,行業(yè)集中度很高。目前中國半導(dǎo) 體熱工藝處

SEMES成立于1993年,是半導(dǎo)體和FPD兩個(gè)事業(yè)為主的綜合設(shè)備廠商,于2004年建立TFT LCD設(shè)備生產(chǎn)為目的的第三工廠。Semes是韓國的預(yù)處理半導(dǎo)體設(shè)備與顯示器制造設(shè)備生產(chǎn)商,可稱其為

柵極工藝:集成電路工藝中關(guān)鍵的步驟,直接影響 IC 性能,主要用多晶硅/金屬作為柵極,用 SiO2、SiON、高 k 介質(zhì)(HFO2、HfSiOx、HfSiON 等)作為柵氧化層,其中薄膜沉積的壁壘在于保證

各家廠商在檢測設(shè)備側(cè)也有所區(qū)別,如泰瑞達(dá)（Teradyne）主要產(chǎn)品為測試機(jī),愛 德萬（Advantest）主要產(chǎn)品為測試機(jī)和分選機(jī),科利登（Xcerra）主要產(chǎn)品為測試機(jī), 東京電子（Tok

晶圓制造 薄膜沉積（生長）拋光CMP 金屬化 半導(dǎo)體制造工藝流程及其需要的設(shè)備和材料 工藝 設(shè)備 設(shè)備廠商 國外 國內(nèi) 氧化 氧化爐 日本東京電子日立國際電氣 北方華創(chuàng) 英國Ther